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Un precursore nell’epitassia del silicio e dei composti del silicio è una sostanza chimica utilizzata in un processo chiamato epitassia per depositare strati di silicio sui substrati.
L’epitassia è una tecnica che prevede la crescita di sottili strati di silicio su un substrato di silicio monocristallino. Questo metodo è parte integrante della produzione di semiconduttori, in particolare nell’industria microelettronica, dove sono essenziali per la produzione di circuiti integrati.
Il metodo di epitassia più comunemente utilizzato è la deposizione chimica da fase vapore utilizzando composti metallorganici (MOCVD, MOVPE). I componenti gassosi vengono introdotti nelle condizioni controllate di un reattore, provocando la formazione degli strati desiderati a seguito della reazione. Un esempio di precursore in questo processo è il tricloruro di silicio.
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