แคตตาล็อกสินค้า
สารตั้งต้นใน epitaxy ของซิลิคอนและสารประกอบซิลิคอนเป็นสารเคมีที่ใช้ในกระบวนการที่เรียกว่า epitaxy เพื่อสะสมชั้นของซิลิคอนบนพื้นผิว
Epitaxy เป็นเทคนิคที่เกี่ยวข้องกับการเติบโตของชั้นซิลิคอนบาง ๆ บนพื้นผิวซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์ วิธีการนี้เป็นส่วนสำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งจำเป็นต่อการผลิตวงจรรวม
วิธีการ epitaxy ที่ใช้กันมากที่สุดคือการสะสมไอสารเคมีโดยใช้สารประกอบโลหะอินทรีย์ (MOCVD, MOVPE) ส่วนประกอบที่เป็นก๊าซถูกนำมาใช้ภายใต้สภาวะควบคุมของเครื่องปฏิกรณ์ ทำให้เกิดการก่อตัวของชั้นที่ต้องการอันเป็นผลมาจากปฏิกิริยา ตัวอย่างของสารตั้งต้นในกระบวนการนี้คือซิลิคอนไตรคลอไรด์
สมัครสมาชิกเพื่อรับข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์ใหม่บนพอร์ทัลผลิตภัณฑ์และข้อมูลเชิงพาณิชย์เกี่ยวกับ PCC Capital Group
Sienkiewicza 4
56-120 Brzeg Dolny
Poland
Przemysław Kanikowski
email: iod.rokita@pcc.eu
