Каталог продукції
Газоподібний прекурсор кремнію — це хімічна сполука, яка існує в газоподібному стані і містить атом Si. Як випливає з назви, речовина супроводжує початкову стадію реакції виробництва кремнію. Одним із відомих попередників є трихлорид кремнію, компонент у виробництві епітаксіальних шарів із SiC.
Цей процес включає осадження шарів елемента на підкладки, в результаті чого утворюються тонкошаруваті структури з контрольованою чистотою та хімічним складом. Він використовується у процесах виробництва напівпровідників, таких як кремнієві матриці для інтегральних схем, світлодіодів або фотоелектричних елементів.
Підпишіться, щоб отримувати інформацію про новинки Продуктового порталу та комерційну інформацію про PCC Capital Group
Sienkiewicza 4
56-120 Brzeg Dolny
Poland
Przemysław Kanikowski
email: iod.rokita@pcc.eu